申請/專利權人：合肥工業大學;中國科學院微電子研究所

申請日：2023-08-22

公開（公告）日：2023-09-15

公開（公告）號：CN116754568A

主分類號：G01N21/88

分類號：G01N21/88;G01N21/01;G06T7/00;G06V10/774;G06V10/82

優先權：

專利狀態碼：在審-公開

法律狀態：2023.09.15#公開

摘要：本發明提供了一種基于暗場成像過焦掃描的層疊缺陷分離方法及裝置。該方法包括：利用過焦掃描光學顯微技術對標準樣品的干擾缺陷進行掃描，得到基于暗場成像的干擾缺陷的彌散斑圖像，并利用圖像映射模型處理干擾缺陷的彌散斑圖像，得到圖像映射關系數據庫；利用過焦掃描光學顯微技術從光軸方向上對待測樣品進行掃描，得到待測樣品的灰度圖；基于圖像映射關系數據庫，通過差分操作對待測樣品的灰度圖進行分離，得到亞表面缺陷的灰度變化圖；對亞表面缺陷的灰度變化圖像進行特征截取并將截取所得到的特征進行矩陣運算，得到待測樣品的亞表面缺陷的過焦掃描光學顯微圖像；基于亞表面缺陷的過焦掃描光學顯微圖像得到待測樣品的亞表面缺陷的屬性信息。

主權項：1.一種基于暗場成像過焦掃描的層疊缺陷分離方法，其特征在于，包括：利用過焦掃描光學顯微技術對標準樣品的干擾缺陷進行從表面到亞表面的掃描，得到基于暗場成像的所述標準樣品的干擾缺陷的彌散斑圖像，并利用圖像映射模型處理所述標準樣品的干擾缺陷的彌散斑圖像，得到圖像映射關系數據庫；利用所述過焦掃描光學顯微技術從光軸方向上對具有層疊缺陷的待測樣品進行從表面到亞表面的掃描，得到所述待測樣品的灰度圖；基于所述圖像映射關系數據庫，通過差分操作從所述待測樣品的灰度圖中將所述待測樣品的亞表面缺陷的圖像分離出來，得到所述待測樣品的亞表面缺陷的灰度變化圖，其中，所述亞表面缺陷的灰度變化圖包括表示聚焦的亞表面缺陷圖像和表示離焦的亞表面缺陷的彌散斑圖像；沿所述光軸方向上對所述待測樣品的亞表面缺陷的灰度變化圖像進行特征截取并將截取所得到的特征進行矩陣運算，得到所述待測樣品的亞表面缺陷的過焦掃描光學顯微圖像；基于所述待測樣品的亞表面缺陷的過焦掃描光學顯微圖像得到所述待測樣品的亞表面缺陷的屬性信息。

全文數據：

權利要求：

百度查詢： 合肥工業大學;中國科學院微電子研究所 一種基于暗場成像過焦掃描的層疊缺陷分離方法及裝置

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