申請/專利權人:江蘇日久光電股份有限公司
申請日:2022-11-30
公開(公告)日:2023-03-17
公開(公告)號:CN218642810U
主分類號:C23C14/22
分類號:C23C14/22;C23C14/54
優先權:
專利狀態碼:有效-授權
法律狀態:2023.03.17#授權
摘要:本實用新型公開了一種用于真空鍍膜的供氣裝置,包括真空室組,包括第一真空室以及第二真空室;混合氣體管道,連通有第一分管道和第二分管道,所述第一分管道上設有第一控制閥,所述第二分管道上設有第二控制閥;惰性氣體管道;第一管道組,包括用于連通所述第一分管道和第一真空室的第一管道,以及用于連通所述第一管道和惰性氣體管道的第二管道,所述第二管道上設有第一管道閥;第二管道組,包括用于連通所述第二分管道和第二真空室的第三管道,用于連通所述第三管道和惰性氣體管道的第四管道,所述第四管道上設有第二管道閥。本實用新型的用于真空鍍膜的供氣裝置通過對管道的規劃設置,使每個真空室的氣體種類的選擇相互獨立且不會互相干擾。
主權項:1.一種用于真空鍍膜的供氣裝置,其特征在于,包括:真空室組,包括第一真空室以及第二真空室;混合氣體管道,用于提供混合氣體,所述混合氣體管道連通有第一分管道和第二分管道,所述第一分管道上設有第一控制閥,所述第二分管道上設有第二控制閥;惰性氣體管道,用于提供惰性氣體;第一管道組,包括用于連通所述第一分管道和第一真空室的第一管道,以及用于連通所述第一管道和惰性氣體管道的第二管道,所述第二管道上設有第一管道閥;第二管道組,包括用于連通所述第二分管道和第二真空室的第三管道,以及用于連通所述第三管道和惰性氣體管道的第四管道,所述第四管道上設有第二管道閥。
全文數據:
權利要求:
百度查詢: 江蘇日久光電股份有限公司 用于真空鍍膜的供氣裝置
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