申請/專利權人：江蘇日久光電股份有限公司

申請日：2022-11-30

公開（公告）日：2023-03-17

公開（公告）號：CN218642810U

主分類號：C23C14/22

分類號：C23C14/22;C23C14/54

優先權：

專利狀態碼：有效-授權

法律狀態：2023.03.17#授權

摘要：本實用新型公開了一種用于真空鍍膜的供氣裝置，包括真空室組，包括第一真空室以及第二真空室；混合氣體管道，連通有第一分管道和第二分管道，所述第一分管道上設有第一控制閥，所述第二分管道上設有第二控制閥；惰性氣體管道；第一管道組，包括用于連通所述第一分管道和第一真空室的第一管道，以及用于連通所述第一管道和惰性氣體管道的第二管道，所述第二管道上設有第一管道閥；第二管道組，包括用于連通所述第二分管道和第二真空室的第三管道，用于連通所述第三管道和惰性氣體管道的第四管道，所述第四管道上設有第二管道閥。本實用新型的用于真空鍍膜的供氣裝置通過對管道的規劃設置，使每個真空室的氣體種類的選擇相互獨立且不會互相干擾。

主權項：1.一種用于真空鍍膜的供氣裝置，其特征在于，包括：真空室組，包括第一真空室以及第二真空室；混合氣體管道，用于提供混合氣體，所述混合氣體管道連通有第一分管道和第二分管道，所述第一分管道上設有第一控制閥，所述第二分管道上設有第二控制閥；惰性氣體管道，用于提供惰性氣體；第一管道組，包括用于連通所述第一分管道和第一真空室的第一管道，以及用于連通所述第一管道和惰性氣體管道的第二管道，所述第二管道上設有第一管道閥；第二管道組，包括用于連通所述第二分管道和第二真空室的第三管道，以及用于連通所述第三管道和惰性氣體管道的第四管道，所述第四管道上設有第二管道閥。

全文數據：

權利要求：

百度查詢： 江蘇日久光電股份有限公司 用于真空鍍膜的供氣裝置

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