申請/專利權人：北京順造科技有限公司

申請日：2021-09-01

公開（公告）日：2023-03-17

公開（公告）號：CN218635919U

主分類號：A47L11/30

分類號：A47L11/30;A47L11/40

優先權：

專利狀態碼：有效-授權

法律狀態：2023.03.17#授權

摘要：本公開提供一種清潔基部的流體分配模塊，流體分配模塊包括：流量控制部，流量控制部設置于清潔基部，并與第一供液管路連接；以及流體分配器，流體分配器設置于上蓋部，流量控制部用于向流體分配器提供預定量的清潔液體；流體分配器包括至少一個出水口，以便將清潔液體通過出水口施加至清潔模塊，并通過清潔模塊的轉動將清潔液體施加至待清潔表面。本公開還提供一種清潔基部及表面清潔設備。

主權項：1.一種清潔基部的流體分配模塊，所述清潔基部包括：殼體模塊，所述殼體模塊至少形成所述清潔基部的部分外表面；第一供液管路，所述第一供液管路設置于所述殼體模塊，用于接收清潔液體，并形成清潔液體的流動通道；清潔模塊，所述清潔模塊設置于所述殼體模塊，用于清潔待清潔表面；以及上蓋部，所述上蓋部設置于所述殼體模塊，用于形成所述清潔基部的部分外表面；其特征在于，所述流體分配模塊包括：流量控制部，所述流量控制部設置于所述清潔基部，并與所述第一供液管路連接；以及流體分配器，所述流體分配器設置于所述上蓋部，所述流量控制部用于向流體分配器提供預定量的清潔液體；所述流體分配器包括至少一個出水口，以便將清潔液體通過出水口施加至清潔模塊，并通過所述清潔模塊的轉動將清潔液體施加至待清潔表面。

全文數據：

權利要求：

百度查詢： 北京順造科技有限公司 清潔基部的流體分配模塊、清潔基部及表面清潔設備

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