申請/專利權人：日東電工株式會社

申請日：2021-07-13

公開（公告）日：2023-03-17

公開（公告）號：CN115812033A

主分類號：B32B9/00

分類號：B32B9/00

優先權：["20200713 JP 2020-120131","20200831 JP 2020-146144","20201001 JP 2020-166844","20201001 JP 2020-166847","20201116 JP 2020-190466"]

專利狀態碼：在審-公開

法律狀態：2023.03.17#公開

摘要：本發明的帶防污層的光學薄膜F依次具備透明基材11、硬涂層12、無機氧化物基底層13和防污層14。防污層14為配置在無機氧化物基底層13上的干法涂布膜。防污層14的與無機氧化物基底層13相反一側的表面14a的、在溫度為25℃且最大壓痕深度為200nm的條件下利用納米壓痕法而測得的彈性恢復率為76％以上。

主權項：1.一種帶防污層的光學薄膜，其依次具備透明基材、硬涂層、無機氧化物基底層和防污層，所述防污層為配置在所述無機氧化物基底層上的干法涂布膜，所述防污層的與所述無機氧化物層相反一側的表面的、在溫度為25℃且最大壓痕深度為200nm的條件下利用納米壓痕法而測得的彈性恢復率為76％以上。

全文數據：

權利要求：

百度查詢： 日東電工株式會社 帶防污層的光學薄膜

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