申請/專利權人：I-TEN公司

申請日：2021-04-28

公開（公告）日：2023-03-14

公開（公告）號：CN115803903A

主分類號：H01M4/04

分類號：H01M4/04

優先權：["20200428 FR 2004195"]

專利狀態碼：在審-公開

法律狀態：2023.03.14#公開

摘要：本發明涉及一種制造電化學裝置的方法，所述電化學裝置選自由以下組成的組：容量大于1mAh的鋰離子電池、電容器、超級電容器、電阻器、電感器、晶體管、光伏電池、燃料電池，實施由多孔電極和多孔隔膜組成的組件的制造方法，其中所述電極包括沉積在基板上的多孔層，孔隙度是在20％和60％之間按體積計，孔的平均直徑小于50nm。

主權項：1.一種制造電化學裝置的方法，所述電化學裝置選自由以下組成的組：容量大于1mAh的鋰離子電池、鈉離子電池、鋰空氣電池、光伏電池、燃料電池，所述方法實施制造由多孔電極和多孔隔膜組成的組件的方法，所述電極包括沉積在基板上的多孔層，所述層不含粘合劑，孔隙度是在20％和60％之間按體積計，優選在25％和50％之間，孔的平均直徑小于50nm，所述隔膜包括沉積在所述電極上的多孔無機層，所述多孔無機層不含粘合劑，孔隙度是在25％和60％之間按體積計，優選在25％和50％之間，孔的平均直徑小于50nm，所述制造方法的特征在于：a提供一種基板，第一膠體懸浮液或糊狀物，其包括至少一種活性電極材料P的單分散初級納米顆粒聚集體或附聚物，所述初級納米顆粒的平均初級直徑D50是在2nm和150nm之間，優選在2nm和100nm之間，更優選在2nm和60nm之間，所述聚集體或附聚物的平均直徑D50是在50nm和300nm之間，優選在100nm和200nm之間，以及第二膠體懸浮液，其包括至少一種無機材料E的納米顆粒聚集體或附聚物，所述納米顆粒的平均初級直徑D50是在2nm和100nm之間，優選在2nm和60nm之間，所述聚集體或附聚物的平均直徑D50是在50nm和300nm之間，優選在100nm和200nm之間；b通過優選選自以下組成的組的技術：電泳法、印刷法，特別是噴墨印刷法和柔版印刷法，以及涂布法，特別是刮刀涂布法、輥涂法、簾幕式涂布法、浸涂法和擠出狹縫式涂布法，以步驟a中提供的所述膠體懸浮液或糊狀物在所述基板的至少一個表面上沉積一層；c若適當的話，在將步驟b中得到的所述層與其中間基板分離之前或之后，干燥所述層，然后，任選地優選在氧化氣氛下對所述干燥層進行熱處理，并通過壓縮和或加熱將其固結，得到多孔優選中孔無機層；d將導電材料涂層沉積在所述多孔層的孔隙上和孔隙內，從而形成所述多孔電極；e通過優選選自以下組成的組的技術：電泳法、印刷法，優選選自噴墨印刷法和柔版印刷法，以及涂布法，優選選自輥涂法、簾幕式涂布法、刮刀涂布法、擠出狹縫式涂布法和浸涂法，以步驟a中提供的所述第二膠體懸浮液在所述步驟d中得到的所述多孔電極上沉積一層多孔無機層；f將步驟e中所得結構的所述多孔無機層進行干燥，優選在空氣流下進行，并在低于500℃，優選在大約400℃的溫度下進行熱處理，從而得到由多孔電極和多孔隔膜組成的所述組件，應該了解的是，所述基板可以是能夠充當集電器的基板或中間基板。

全文數據：

權利要求：

百度查詢： I-TEN公司 由隔膜和多孔電極組成的組件的制造方法、由隔膜和多孔電極組成的組件以及包含所述組件的電化學裝置

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